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认识纳米防水PECVD
发布于:2023/10/12 15:54:17  浏览次数:3985

薄膜制备工艺在超大规模集成电路技术中有着非常广泛的应用,按照其成膜方法可分为两大类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。等离子增强型化学气相淀积(PECVD)是化学气相淀积的一种,其淀积温度低是它最突出的优点。PECVD淀积的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及极佳的台阶覆盖性,正由于这些优点使其在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。


由于PECVD应用范围广,本司深圳市技高美纳米科技有限公司正利用PECVD的独有特性,通过液态源将药水转换成药蒸气,利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上(即样品放置的托盘)产生辉光放电,通过水循环使电极板温度保持到50度以下,然后通入适量的工艺气体与药蒸气,这些气体和药体进入仓体后产生一系列化学反应和等离子体反应,最终在样品表面形成固态薄膜。


在反应过程中,反应气体与药蒸气从进气口进入真空仓体,逐渐扩散至整个仓体内部,在射频源激发的电场作用下,反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解物发生化学反应,生成形成膜的初始成分和副反应物,这些生成物以化学键的形式吸附到样品表面,生成固态防水疏水膜的晶核,晶核逐渐生长成岛状物,岛状物继续生长成连续的薄膜。在薄膜生长过程中,各种副产物从膜的表面逐渐脱离,在真空泵的作用下从出口排出。


所生成纳米膜厚度可控制在20nm至2000nm。并具有防水、疏水、疏油、抗氧化、抗腐蚀等作用。


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